薄い酸化膜の極微小電流測定による信頼性評価

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概要

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• 誘電体膜の極微小電流の測定技術を開発し、10aAオーダーまでの測定を可能にした。その測定技術を用いて極薄酸化膜の極微小リーク電流測定をおこなった。その結果、トンネル酸化膜の伝導電流は10aAオーダーまでF-Nプロットに従うことを確認した。また、高温アニールによるストレス印加後のトンネル酸化膜のリーク電流の回復は微小電流領域でも起こっていることも確認できた。また、同じストレスでは膜厚が薄くなるほど極微小リーク電流量の増加が顕著であることを明かとした。また、60Å以下のトンネル膜でF-Nのゆらぎを確認し、ストレスを与えるとこのゆらぎはなくなることを明かとした。

• 社団法人電子情報通信学会の論文
• 1995-05-24

著者

• 小山 浩

  三菱電機(株)

• 小山 浩

  三菱電機ulsi開発研究所評価・解析センター

• 益子 洋治

  三菱電機(株)ulsi開発研究所評価解析センターlsiプロセス開発第二部

• 小林 清輝

  三菱電機(株)ulsi開発研究所評価解析センターlsiプロセス開発第二部

• 勝又 正文

  三菱電機株式会社ULSI技術開発センター

• 勝又 正文

  三菱電機(株)ULSI開発研究所評価解析センターLSIプロセス開発第二部

• 三橋 順一

  三菱電機(株)ULSI開発研究所評価解析センターLSIプロセス開発第二部

• 小林 清輝

  三菱電機(株)

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