薄い酸化膜の極微小電流測定による信頼性評価
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概要
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誘電体膜の極微小電流の測定技術を開発し、10aAオーダーまでの測定を可能にした。その測定技術を用いて極薄酸化膜の極微小リーク電流測定をおこなった。その結果、トンネル酸化膜の伝導電流は10aAオーダーまでF-Nプロットに従うことを確認した。また、高温アニールによるストレス印加後のトンネル酸化膜のリーク電流の回復は微小電流領域でも起こっていることも確認できた。また、同じストレスでは膜厚が薄くなるほど極微小リーク電流量の増加が顕著であることを明かとした。また、60Å以下のトンネル膜でF-Nのゆらぎを確認し、ストレスを与えるとこのゆらぎはなくなることを明かとした。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1993-11-19
著者
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小林 清輝
三菱電機(株)ulsi開発研究所評価解析センターlsiプロセス開発第二部
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小林 清輝
三菱電機ULSI開発研究所
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勝又 正文
三菱電機株式会社ULSI技術開発センター
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三橋 順一
三菱電機(株)ULSI開発研究所評価解析センターLSIプロセス開発第二部
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勝又 正文
三菱電機ULSI開発研究所
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杉本 拡光
三菱電機ULSI開発研究所
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三橋 順一
三菱電機ULSI開発研究所
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