極薄絶縁膜形成技術 (超LSI用絶縁膜<特集>)

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概要

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• 電気化学会の論文

著者

• 小林 清輝

  三菱電機(株)ulsi開発研究所評価解析センターlsiプロセス開発第二部

• 平山 誠

  三菱電機ulsi開発研究所

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