益子 洋治 | 三菱電機(株)ulsi開発研究所評価解析センターlsiプロセス開発第二部

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概要

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関連著者

• 益子 洋治

  三菱電機(株)ulsi開発研究所評価解析センターlsiプロセス開発第二部

• 小山 浩

  三菱電機ulsi開発研究所評価・解析センター

• 小山 浩

  三菱電機(株)

• 益子 洋治

  ルネサステクノロジー(株) 生産技術本部 ウエハプロセス技術統括部

• 小山 徹

  株式会社ルネサステクノロジ

• 小守 純子

  三菱電機(株)ULSI開発研究所

• 小守 純子

  株式会社ルネサステクノロジ

• 小山 徹

  三菱電機(株)

• 三橋 順一

  三菱電機(株)ULSI開発研究所評価解析センターLSIプロセス開発第二部

• 木村 幹広

  三菱電機ULSI開発研究所

• 渡部 元

  三菱電機(株)ulsi開発研究所 評価解析センター第2グループ

• 小林 清輝

  三菱電機(株)ulsi開発研究所評価解析センターlsiプロセス開発第二部

• 勝又 正文

  三菱電機株式会社ULSI技術開発センター

• 益子 洋治

  三菱電機ULSI開発研究所

• 吉田 映二

  株式会社ルネサステクノロジ

• 中嶋 太一

  ルネサスセミコンダクタエンジニアリング株式会社

• 吉田 映二

  三菱電機(株)

• 中嶋 太一

  菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング(株)

• 向川 泰和

  三菱電機(株)

• 池野 昌彦

  三菱電機(株)

• 東谷 恵市

  三菱電機(株)ULSI開発研究所 LSIプロセス開発第3部第1グループ

• 三橋 順一

  三菱電機北伊丹製作所

• 向川 泰和

  三菱電機株式会社ULSI技術開発センタープロセス評価技術部

• 勝又 正文

  三菱電機(株)ULSI開発研究所評価解析センターLSIプロセス開発第二部

• 木村 幹広

  三菱電機(株)ulsi開発研究所

• 小林 清輝

  三菱電機(株)

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著作論文

• Flip Chip対応裏面EBテスティング手法の検討
• ULSIデバイス不良解析エキスパートシステム
• MOSFET信頼性に与えるプラズマダメージの影響評価
• 薄い酸化膜の極微小電流測定による信頼性評価
• 信頼性・評価技術 (VLSI)
• 極薄シリコン酸化膜の経時絶縁劣化(TDDD)

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