木村 幹広 | 三菱電機(株)ulsi開発研究所

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関連著者

• 木村 幹広

  三菱電機(株)ulsi開発研究所

• 小山 浩

  三菱電機ulsi開発研究所評価・解析センター

• 木村 幹広

  三菱電機(株)ULSI開発研究所 評価・解析センター

• 木村 幹広

  三菱電機ULSI開発研究所

• 木村 幹広

  三菱電機(株)

• 小山 浩

  三菱電機(株)

• 益子 洋治

  三菱電機(株)ulsi開発研究所評価解析センターlsiプロセス開発第二部

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  三菱電機ULSI開発研究所

• 三橋 順一

  三菱電機北伊丹製作所

• 三橋 順一

  三菱電機(株)ULSI開発研究所評価解析センターLSIプロセス開発第二部

著作論文

• 1a-4 極薄シリコン酸化膜における経時絶縁膜劣化(弟7回信頼性シンポジウム)
• 極薄シリコン酸化膜のストレス誘起微小リーク機構
• 極薄シリコン酸化膜の経時絶縁劣化(TDDD)
• 時間に依存した酸化膜破壊機構と量子物理化学

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