木村 幹広 | 三菱電機(株)ULSI開発研究所 評価・解析センター

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概要

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• 関根 正廣

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著作論文

• 1a-4 極薄シリコン酸化膜における経時絶縁膜劣化(弟7回信頼性シンポジウム)
• 時間に依存した酸化膜破壊機構と量子物理化学
• 薄いゲート酸化膜のTDDB電界加速寿命予測モデル

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