EB直描回折格子を用いたDFBレーザの発振波長制御
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概要
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大容量通信を可能にする波長多重光伝送システムにおいては, 発振波長が異なる複数のレーザ光源が必要であり, 絶対波長の制御や, 同一基板上に複数の波長を並べる技術が重要となる。我々はEB直接描画法で形成した回折格子のピッチをわずかに変化させることにより, 1.6 nmもしくは3.2 nm間隔で約60 nmの広範囲においてDFBレーザの波長制御が可能なことを報告した。今回, 活性層幅制御を組み合わせ, 更に正確に発振波長を制御したので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-03-06
著者
-
樋口 英世
大阪電気通信大学大学院工学研究科
-
松本 啓資
三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
-
武本 彰
三菱電機株式会社
-
樋口 英世
三菱電機株式会社
-
武本 彰
三菱電機株式会社高周波光素子事業統括部
-
鈴木 大輔
東北大学電気通信研究所
-
鈴木 大輔
三菱電機(株)高周波光素子事業部光素子開発部
-
鈴木 大輔
静岡理工科大学理工学部電気電子工学科
-
鈴木 大輔
三菱電機株式会社
-
神里 武
三菱電機株式会社
-
巳浪 裕之
三菱電機株式会社
-
久 義浩
三菱電機株式会社
-
芝 哲夫
三菱電機株式会社
-
松本 啓資
三菱電機株式会社
-
鈴木 大輔
三菱電機(株)高周波光デバイス製作所
-
巳浪 裕之
三菱電機株式会社高周波光素子事業統括部
-
久 義浩
三菱電機
-
鈴木 大輔
三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
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