集積型 a-Si 太陽電池のレーザパターニング
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概要
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Laser patterning technique of multi-layer thin film structures was developed as a new fabrication process for the integrated-type amorphous silicon (a-Si) solar cells. It was found that the total output power for an a-Si solar cell submodule using the laser patterning method was 20% higher than that obtained by a conventional patterning method. In laser patterning, optical and three-dimensional thermal analysis of multi-layer structures was performed to determine the selective scribing conditions for each layer of an a-Si solar cell. It was found that each layer of the integrated-type a-Si solar cells can be selectively scribed by a Q-switched YAG laser.
- 社団法人精密工学会の論文
- 1990-11-05
著者
-
中野 昭一
三洋電機(株)
-
中野 昭一
三洋電機株式会社ニューマテリアル研究所
-
大隈 正人
三洋電機(株)
-
木山 精一
三洋電機(株)
-
松岡 継文
三洋電機(株)
-
広野 豊
三洋電機(株)
-
桑野 幸徳
三洋電機(株)
-
大隅 正人
三洋電機
-
中野 昭一
三洋電機
-
木山 精一
(株)三洋電機
-
木山 精一
三洋電機株式会社 株式会社ジーティシー
-
桑野 幸徳
三洋電機
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