レチノイン酸LB膜の作製条件と電場効果に関する検討
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概要
著者
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澤田 孝幸
北海道工業大学
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今井 和明
北海道工業大学
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木村 尚仁
北海道工業大学工学部電気電子工学科
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今井 和明
北海道工業大学創生工学部
-
坪野 功
北海道工業大学応用電子工学科
-
坪野 功
北海道工業大学電気電子工学科
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木村 尚仁
北海道工業大学創生工学部
-
木村 尚仁
北海道大学電子科学研究所
-
Kimura Naohito
Department Of Applied Electronics Hokkaido Institute Of Technology
-
中村 嘉一
北海道工業大学大学院応用電子工学専攻
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