Ni/n-(Al)GaNショットキーの電気的特性 : MBE膜とMOCVD膜の比較
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概要
著者
-
澤田 孝幸
北海道工業大学
-
今井 和明
北海道工業大学
-
米田 里志
北海道工業大学
-
今井 和明
北海道工業大学創生工学部
-
米田 里志
北海道工業大学応用電子工学専攻
-
今井 和明[他]
北海道工業大学電気電子工学科
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