坪野 功 | 北海道工業大学電気電子工学科

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概要

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• 同名の論文著者
• 北海道工業大学電気電子工学科の論文著者

関連著者

• 澤田 孝幸

  北海道工業大学

• 今井 和明

  北海道工業大学

• 今井 和明

  北海道工業大学創生工学部

• 坪野 功

  北海道工業大学応用電子工学科

• 坪野 功

  北海道工業大学電気電子工学科

• 木村 尚仁

  北海道工業大学工学部電気電子工学科

• 木村 尚仁

  北海道工業大学創生工学部

• 木村 尚仁

  北海道大学電子科学研究所

• Kimura Naohito

  Department Of Applied Electronics Hokkaido Institute Of Technology

• 山形 友二

  北海道工業大学

• 山形 友二

  北海道工業大学大学院応用電子工学専攻

• 藤原 幸二

  北海道工業大学応用電子工学専攻

• 佐々木 陽介

  北海道工業大学工学研究科応用電子工学専攻

• 中村 嘉一

  北海道工業大学大学院応用電子工学専攻

• 斎藤 博

  埼玉医大総合医療センター

• 鈴木 和彦

  北海道工業大学創生工学部

• 斎藤 博

  国立療養所西多賀病院

• 荒磯 恒久

  北海道大学電子科学研究所

• 荒磯 恒久

  北海道大学先端科学技術共同研究センター

• 澤田 雅和

  北海道工業大学

• 伊藤 友二

  北海道工業大学

• 伊藤 友二

  北海道工業大学応用電子工学専攻

• 渡邊 和紀

  北海道工業大学応用電子工学専攻

• 佐々木 政志

  北海道工業大学大学院応用電子工学専攻

• 斎藤 博

  岡山理科大学

• 齋藤 博

  大阪大 大学院医学系研究科 分子病態医学専攻 分子病態内科学

• 齋藤 博

  岡山理科大学

• 松尾 剛美

  北海道工業大学大学院応用電子工学専攻

• 津川 賢介

  北海道工業大学応用電子工学専攻

• 力弓 豊

  北海道工業高等学校

• 田古嶋 直樹

  北海道工業大学応用電子工学専攻

• 荒磯 恒久

  北海道大学

• 澤田 雅和

  北海道工業大学応用電子工学専攻

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著作論文

• 時間分解蛍光偏光解消法を用いたLangmuir膜の動的構造解析
• レチノイン酸LB膜の作製条件と電場効果に関する検討
• レチノイン酸LB膜の作製条件と吸収スペクトル特性に関する検討
• 水素処理によるZnSe表面層のクリーニング効果II
• 水素処理によるZnSe表面層のクリーニング効果
• 二重サブバンド構造ZnSe-ZnTe超格子による波長変換効果
• 障壁高さの不均一性を考慮したGaNショットキーI-V-T特性のシミュレーション
• レチナールLB膜への脂質混合による吸光特性の変化
• MBE-ZnSe再成長ホモ界面における電流輸送特性と容量過渡応答解析
• GaNショットキーおよび絶縁膜/GaN界面の電気的特性評価
• Zn_1-x Cd_x Se 液晶及びZn_0.85 Cd_0.15 Se/ZnSe 単一量子井戸構造の光学的評価
• 二重サブバンド構造ZnSe-ZnTe超格子の光学的特性 : 波長変換効果
• ZnSe/GaAsヘテロ界面およびZnSe/ZnSe再成長ホモ界面の特性
• MBE-ZnSe/GaAs基板界面およびZnSe再成長ホモ界面の電気的特性評価
• ClドープZnSe_1-x Te_x混晶膜の光学的性質

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