Cu(EDMDD)_2を用いたHアシストプラズマCVD法による高純度銅薄膜形成
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概要
著者
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白谷 正治
九州大学大学院システム情報科学研究院
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白谷 正治
九州大学大学院システム情報科学研究院電子デバイス工学部門
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竹中 弘祐
九州大学大学院システム情報科学府院電子デバイス工学専攻
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金 洪杰
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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竹中 弘祐
阪大接合研
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竹中 弘祐
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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竹中 弘祐
大阪大学接合科学研究所
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金 洪杰[他]
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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