水素ラジカル源を有するプラズマCVD装置による高品質銅薄膜形成とトレンチ埋め込み
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概要
著者
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川崎 仁晴
九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻
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金 洪杰
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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川崎 孝
九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻
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川崎 仁晴[他]
九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻
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