高品質銅薄膜堆積のためのHラジカル源付プラズマCVD装置の開発
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概要
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- 1998-11-18
著者
-
白谷 正治
九州大学大学院システム情報科学研究院
-
渡辺 征夫
九州大学
-
渡辺 征夫
九州大学大学院システム情報電子デバイス専攻
-
Watanabe Yoshihide
Toyota Central Research And Development Laboratories Inc.
-
金 洪杰
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
-
中武 靖裕
九州大学
-
福澤 剛
九州大学
-
白谷 正治
九州大学
-
金 洪杰
九州大学ベンチャービジネスラボラトリー
-
中武 靖裕
九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻
-
福澤 剛
北九州高専
-
福澤 剛[他]
北九州高専
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