プラズマ異方性CVDを用いたトレンチ内へのRuの堆積
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概要
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We have demonstrated the plasma anisotropic CVD of Ru using Ru(acac)_3, by which Ru is deposited on bottom surface of trenches and top surface, while no deposition takes place on sidewall of trenches.
- 九州大学の論文
著者
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白谷 正治
九州大学大学院システム情報科学研究院
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白谷 正治
九州大学大学院システム情報科学研究院電子デバイス工学部門
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鍛治 昂男
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
-
竹中 弘祐
九州大学大学院システム情報科学府院電子デバイス工学専攻
-
竹中 弘祐
阪大接合研
-
竹中 弘祐
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
-
竹中 弘祐
大阪大学接合科学研究所
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