竹中 弘祐 | 大阪大学接合科学研究所
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概要
関連著者
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竹中 弘祐
阪大接合研
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竹中 弘祐
大阪大学接合科学研究所
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白谷 正治
九州大学大学院システム情報科学研究院
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白谷 正治
九州大学大学院システム情報科学研究院電子デバイス工学部門
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竹中 弘祐
九州大学大学院システム情報科学府院電子デバイス工学専攻
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竹中 弘祐
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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節原 裕一
国立大学法人大阪大学接合科学研究所
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堀 勝
名古屋大学
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関根 誠
名古屋大学
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関根 誠
名大
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金 洪杰
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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趙 研
大阪大学接合科学研究所
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節原 裕一
大阪大学
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節原 裕一
大阪大学接合科学研究所
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堀 勝
名古屋大学大学院工学研究科附属プラズマナノ工学研究センター
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鍛治 昂男
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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鍛冶 昂男
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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大西 将夫
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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白谷 正治
九州大学 大学院システム情報科学研究院
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節原 裕一
阪大接合研
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江部 明憲
(株)イー・エム・ディー
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白谷 正治
九州大学
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竹中 弘祐
大阪大学
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趙 研
大阪大学
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大西 将夫[他]
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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金 洪杰[他]
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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竹中 弘祐[他]
九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻
著作論文
- プラズマ異方性CVDを用いたトレンチ内へのRuの堆積
- 真空紫外吸収分光法を用いた銅CVD放電中のH密度測定
- Cu(EDMDD)_2を用いたHアシストプラズマCVD法により堆積したCuの成膜初期観察
- Cu(EDMDD)_2を用いたHアシストプラズマCVD法による高純度銅薄膜形成
- Cu(hfac)_2を用いたプラズマCVDによる銅薄膜の形成機構
- 21406 マルチアンテナ型RFプラズマによるメートル級大面積での低ダメージプロセスと制御(基調講演,デバイス&配線技術2,OS.1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS),学術講演)
- フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマ-ソフトマテリアル相互作用の解析
- フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマーソフトマテリアル相互作用の解析