H原子アシストプラズマCVD法による高純度銅薄膜堆積と銅の異方性堆積
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概要
著者
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竹中 弘祐
九州大学大学院システム情報科学府院電子デバイス工学専攻
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大西 将夫
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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金 洪杰
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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竹中 弘祐
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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金 洪杰
九州大学ベンチャービジネスラボラトリー
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竹中 弘祐[他]
九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻
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