プラズマCVD法による電気メッキ用銅シード層の形成
スポンサーリンク
概要
著者
-
古閑 一憲
九州大学大学院システム情報科学研究院
-
竹中 弘祐
九州大学大学院システム情報科学府院電子デバイス工学専攻
-
金 洪杰
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
-
古閑 一憲
九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻
-
竹中 弘祐
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
-
金 洪杰
九州大学ベンチャービジネスラボラトリー
-
古閑 一憲[他]
九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻
関連論文
- 9.光劣化しない革新的アモルファスシリコン太陽電池の作製をめざして(次世代シリコン太陽電池製造のためのプラズマ技術)
- 負イオンプラズマにおける非対称イオンシース構造
- プラズマ異方性CVDを用いたトレンチ内へのRuの堆積
- 真空紫外吸収分光法を用いた銅CVD放電中のH密度測定
- Cu(EDMDD)_2を用いたHアシストプラズマCVD法により堆積したCuの成膜初期観察
- Cu(EDMDD)_2を用いたHアシストプラズマCVD法による高純度銅薄膜形成
- Cu(hfac)_2を用いたプラズマCVDによる銅薄膜の形成機構
- 高品質光安定a-Si:H薄膜作製用マルチホロー放電における電子密度の空間分布
- クラスター制御プラズマCVDによるa-Si:H薄膜堆積
- 反応性プラズマを用いたナノ粒子の気相合成とナノ粒子含有膜堆積への応用
- 微重力プラズマ中のナノ粒子形成
- 高品質銅薄膜堆積のためのHラジカル源付プラズマCVD装置の開発
- 水素ラジカル源を有するプラズマCVD装置による高品質銅薄膜形成とトレンチ埋め込み
- 水素ラジカル源を有するプラズマCVD装置による高品質銅薄膜形成
- 4.プロセスプラズマ中の微粒子の凝集と輸送(「プラズマと微粒子」研究の諸分野における進展)
- プラズマCVD法による電気メッキ用銅シード層の形成
- 銅薄膜形成用H原子源付プラズマCVD装置による銅含有ラジカルの表面反応制御
- 低圧プラズマによる酸化還元反応および植物成長への影響
- プラズマ異方性CVDによる超高集積回路内配線用銅薄膜の堆積
- H原子アシストプラズマCVD法による高純度銅薄膜堆積と銅の異方性堆積
- Cu(EDMDD)_2を用いたプラズマCVD法による銅薄膜堆積
- 銅薄膜形成用Hラジカル源付プラズマCVD装置によるH密度と銅含有ラジカル密度の制御
- VIII-1 Introductory Talk : プラズマ誘起サブサーフェスとは(シンポジウムVIII:カーボンプロセスにおけるプラズマ誘起サブサーフェス科学の新展開)