プラズマ異方性CVDによる超高集積回路内配線用銅薄膜の堆積
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- プラズマ異方性CVDを用いたトレンチ内へのRuの堆積
- 真空紫外吸収分光法を用いた銅CVD放電中のH密度測定
- Cu(EDMDD)_2を用いたHアシストプラズマCVD法により堆積したCuの成膜初期観察
- Cu(EDMDD)_2を用いたHアシストプラズマCVD法による高純度銅薄膜形成
- Cu(hfac)_2を用いたプラズマCVDによる銅薄膜の形成機構
- プラズマCVD法による電気メッキ用銅シード層の形成
- プラズマ異方性CVDによる超高集積回路内配線用銅薄膜の堆積
- H原子アシストプラズマCVD法による高純度銅薄膜堆積と銅の異方性堆積
- Cu(EDMDD)_2を用いたプラズマCVD法による銅薄膜堆積