プラズマチャージングダメージによるゲート酸化膜信頼性劣化
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概要
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- 1997-12-04
著者
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丹羽 正昭
松下電器産業(株)
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丹羽 正昭
松下電器産業(株) 中央研究所
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江利口 浩二
松下電子工業 (株) 半導体社プロセス開発センター
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江利口 浩二
松下電子工業(株)半導体社プロセス開発センター
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丹羽 正昭
松下電子工業(株) プロセス開発センター
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山田 隆順
松下電子工業株式会社半導体社プロセス開発センター
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橋本 由紀子
松下電子工業(株)
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山田 隆順
松下電子工業(株)半導体社プロセス開発センター
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