反応性スパッタリング法によるメタルゲート電極形成技術

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概要

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• 応用物理学会の論文
• 2000-09-10

著者

• 江利口 浩二

  松下電子工業 (株) 半導体社プロセス開発センター

• 江利口 浩二

  松下電子工業(株)半導体社プロセス開発センター

• 原田 佳尚

  松下電子工業(株) プロセス開発センター

• 原田 佳尚

  松下電子工業(株)半導体社プロセス開発センター

• 森脇 將

  松下電子工業(株)半導体社プロセス開発センター

• 山田 隆順

  松下電子工業株式会社半導体社プロセス開発センター

• 山田 隆順

  松下電子工業(株)半導体社プロセス開発センター

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