山田 隆順 | 松下電子工業株式会社半導体社プロセス開発センター

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概要

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著作論文

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• 反応性スパッタリング法によるメタルゲート電極形成技術
• プラズマチャージングダメージによるゲート酸化膜信頼性劣化

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