森脇 將 | 松下電子工業(株)半導体社プロセス開発センター

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• 江利口 浩二

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• 原田 佳尚

  松下電子工業(株) プロセス開発センター

• 原田 佳尚

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著作論文

• CVD-TiNゲート中の残留C1がゲート絶縁膜特性に及ぼす影響
• 反応性スパッタリング法によるメタルゲート電極形成技術

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