29a-PB-10 XPSによるSi(001)清浄表面の初期酸化過程解析

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概要

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• 1998-03-28

著者

• 原田 佳尚

  松下電子工業(株) プロセス開発センター

• 丹羽 正昭

  松下電子工業(株) プロセス開発センター

• 永富 隆清

  大阪大 工

• 志水 隆一

  大阪大 工

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