MOCVD法により成膜したHfO_2膜へのO_2リモートプラズマ効果
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概要
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- 2002-06-06
著者
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丹羽 正昭
松下電器産業(株)半導体研究センター
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丹羽 正昭
松下電器産業(株)
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丹羽 正昭
松下電器産業(株) 中央研究所
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宮 博信
(株)日立国際電気
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山本 和彦
松下電器産業(株)
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堀井 貞義
(株)日立国際電気
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浅井 優幸
(株)日立国際電気
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野村 久志
(株)日立国際電気
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北山 加奈子
(株)日立国際電気
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丹羽 正昭
松下電器産業 (株) 半導体研究センター
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