論文relation
High-k インテグレートプロセスの研究開発
スポンサーリンク
概要
論文の詳細を見る
日立国際電気の論文
著者
石川 大
(株)日立国際電気
佐野 敦
(株)日立国際電気
堀井 貞義
(株)日立国際電気
関連論文
HfSiON薄膜の形成における In-Situ ポスト窒化アニールの影響
High-k インテグレートプロセスの研究開発
窒素励起活性種を用いたPLD-HfSixOy膜への窒素導入 : Hfの組成と窒素プロファイルの制御(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
MOCVD法により成膜したHfO_2膜へのO_2リモートプラズマ効果
Hf(MMP)4を用いたHfO2薄膜のPLCVD法による成膜
スポンサーリンク
論文relation | CiNii API
論文
論文著者
博士論文
研究課題
研究者
図書
論文
著者
お問い合わせ
プライバシー