分子線エピタキシー法によるZnS/ZnOヘテロ接合の作製と界面反応
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概要
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Molecular beam epitaxial growth of a wurtzite ZnS/ZnO heterostructure on a-plane sapphire substrate is reported. X-ray diffraction and cathodoluminescence measurements revealed the formation of a ZnOS alloy layer at the heterointerface. Bandgap bowing parameter for the ZnO-ZnS binary system was roughly estimated to be ∼4.1 eV using an intense visible emission from the interface layer. Such a large bowing is due to the difference in electronegativity between S and O atoms. It is also found that the visible emission peak was pronounced by an ex-situ thermal annealing due to the progress of alloying.
- 日本真空協会の論文
- 2005-03-20
著者
-
佐々 誠彦
大阪工業大学
-
井上 正崇
大阪工業大学
-
越智 秀
大阪工業大学 インキュベーション・ラボ
-
小池 一歩
大阪工業大学バイオベンチャーセンター
-
矢野 満明
大阪工業大学バイオベンチャーセンター
-
高田 元陽
大阪工業大学新材料研究センター
-
濱 憲治
大阪工業大学新材料研究センター
-
濱 拓馬
大阪工業大学新材料研究センター
-
尾形 健一
大阪工業大学バイオベンチャーセンター
-
小池 一歩
大阪工業大学 ナノ材料マイクロデバイス研究センター
-
井上 正崇
大阪工業大学ナノ材料マイクロデバイス研究センター
-
矢野 満明
大阪工業大学ナノ材料マイクロデバイス研究センター
-
矢野 満明
大阪工業大学
-
小池 一歩
大阪工業大学ナノ材料マイクロデバイス研究センター
-
井上 正崇
大阪工業大学 ナノ材料マイクロデバイス研究センター
-
佐々 誠彦
大阪工業大学ナノ材料マイクロデバイス研究センター
-
尾形 健一
大阪工業大学ナノ材料マイクロデバイス研究センター
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