Operating Conditions to Achieve High Performance in PPCD in a Reversed-Field Pinch Plasma

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概要

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• 2003-12-15

著者

• 島田 敏宏

  東京大学大学院理学系研究科

• Yagi Y

  Energy Technology Research Institute National Institute Of Advanced Industrial Science And Technolog

• Koguchi H

  Energy Technology Research Institute National Institute Of Advanced Industrial Science And Technolog

• Koguchi Haruhisa

  Department Of Physics Faculty Of Science Kanazawa University

• Frassinetti Lorenzo

  Consorzio Rfx Corso Stati Uniti

• YAGI Yasuyuki

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)

• MARTIN Piero

  Consorzio RFX, Corso Stati Uniti

• KOGUCHI Haruhisa

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)

• SHIMADA Toshio

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)

• HIRANO Yoichi

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)

• SAKAKITA Hajime

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)

• ASAI Tomohiko

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)

• Hirano Y

  Advanced Device Development Dept. Renesas Technology Corp.

• Martin Piero

  Consorzio Rfx Corso Stati Uniti

• Hirano Y

  Energy Technology Research Institute National Institute Of Advanced Industrial Science And Technolog

• Asai Tomohiko

  College Of Science And Technology Nihon University

• Sakakita Hajime

  National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology

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