堀口 直人 | (株)富士通研究所
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概要
関連著者
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横山 直樹
(株)富士通研究所
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堀口 直人
(株)富士通研究所
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二木 俊郎
株式会社富士通研究所
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堀口 直人
株式会社富士通研究所
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武藤 俊一
北海道大学大学院工学研究科
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杉山 芳弘
富士通株式会社
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横山 直樹
富士通株式会社
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富士通研
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中田 義昭
(株)富士通研究所
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武藤 俊一
北海道大学工学部
著作論文
- 極薄熱酸化膜中の金属ナノクリスタルの形成と単一電子帯電効果の観測
- 極薄酸化膜中のSnナノクリスタルの形成と単一電子帯電効果の観測
- 自己形成InAs量子ドットのホールバーニングメモリ応用
- 自己形成InAsも量子ドットの光電流ホールバーニングの観測
- 自己形成InAs量子ドットの光電流ホールバーニングの観測
- 極薄熱酸化膜中の金属ナノクリスタルの形成と単一電子帯電効果の観測
- 極薄酸化膜中のSnナノクリスタルの形成と単一電子帯電効果の観測
- 自己形成InAs量子ドットのホールバーニングメモリ応用
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