臼杵 達也 | (株)富士通研究所

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概要

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• 臼杵 達也

  (株)富士通研究所

• 臼杵 達哉

  富士通研究所

• 佐久間 芳樹

  物材機構

• 二木 俊郎

  株式会社富士通研究所

• 堀口 直人

  株式会社富士通研究所

• 佐久間 芳樹

  物質・材料研究機

• 冨本 慎一

  筑波大物理

• 舛本 泰章

  筑波大物理

• 中尾 宏

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• 横山 直樹

  (株)富士通研究所

• 横山 直樹

  富士通研究所

• 中島 安理

  (株)富士通研究所

• 二木 俊郎

  (株)富士通研究所

• 堀口 直人

  (株)富士通研究所

• Masumoto Yasuaki

  Univ. Tsukuba Tsukuba Jpn

• 佐久間 芳樹

  物質・材料研究機構

• 中島 安理

  (株)富士通研究所:(現)広島大学ナノデバイス・システム研究センター

• 臼杵 達哉

  富士通研

• 舛本 泰章

  筑波大学物理学系

• 黒川 篤

  筑波大物理

• 中村 新男

  名大院工

• 山川 市朗

  名大院工

• 横山 直樹

  ナノテクノロジー研究センター株式会社富士通研究所

• 赤沼 泰彦

  名大院工

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著作論文

• 極薄熱酸化膜中の金属ナノクリスタルの形成と単一電子帯電効果の観測
• 極薄熱酸化膜中の金属ナノクリスタルの形成と単一電子帯電効果の観測
• ダイレクトトンネルメモリ(DTM)の展望
• 27pYB-3 Double-cap成長法によるInAs/InP量子ドットの界面構造の断面STM観察(27pYB 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 21pTR-3 InAs/InP量子井戸及びディスク状量子ドットにおける励起子輻射再結合寿命(微粒子・ナノ結晶,領域5,光物性)
• 24aRA-8 原子層レベルの離散的高さ分布を持つディスク状InAs量子ドットの時間分解発光分光(24aRA 微粒子・ナノ結晶,領域5(光物性))
• 極薄トンネル酸化膜を有するフローティングゲートメモリ「ダイレクトトンネルメモリ」 (特集 新材料・新プロセスによる半導体薄膜形成技術--銅配線,Low-k,High-k,CMPの最新動向を探る)
• 5a-N-9 量子ドット間のLandau-Zenerトンネリング
• 量子情報通信を実現する単一光子発生器 (特集:研究開発最前線) -- (安全・安心なセキュリティを実現する技術)

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