武藤 俊一 | 北海道大学工学部
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概要
関連著者
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武藤 俊一
北海道大学工学部
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横山 直樹
(株)富士通研究所
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横山 直樹
富士通株式会社
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杉山 芳弘
富士通株式会社
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粟野 祐二
富士通研
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粟野 祐二
富士通株式会社
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武藤 俊一
北海道大学 大学院工学研究科 量子物理工学専攻
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横山 直樹
ナノテクノロジー研究センター株式会社富士通研究所
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武藤 俊一
北海道大学大学院工学研究科
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粟野 祐二
(株)富士通研究所
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堀口 直人
(株)富士通研究所
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中田 義昭
(株)富士通研究所
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二木 俊郎
株式会社富士通研究所
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二木 俊郎
富士通株式会社
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堀口 直人
株式会社富士通研究所
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中田 義昭
(株)富士通研究所:(株)qdレーザ
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中田 義昭
富士通研究所
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森 俊彦
株式会社富士通研究所
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森 俊彦
富士通研究所
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武藤 俊一
富士通株式会社
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佐久間 芳樹
富士通株式会社
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森 俊彦
富士通
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森 俊彦
富士通株式会社
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高津 求
富士通株式会社
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今村 健一
富士通
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高津 求
株式会社富士通研究所
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阪東 寛
産総研
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阪東 寛
電子技術総合研究所
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関口 隆史
物質・材料研究機構
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中川 格
電子技術総合研究所
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中川 格
電総研
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中尾 宏
(株)富士通研究所
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横山 直樹
富士通
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中尾 宏
富士通株式会社
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関口 隆史
東北大金研
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関口 隆史
独立行政法人 物質・材料研究機構
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関口 隆史
物材機構
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関口 隆史
物材研
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武藤 俊一
北大
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クリストフ ウィルナー
富士通株式会社
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足立原 孝実
富士通
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中村 智
富士通株式会社
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稲田 嗣夫
富士通株式会社
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田村 泰孝
富士通株式会社
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武藤 俊一
富士通研究所
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関口 隆史
東北大理
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関口 隆史
金属材料研究所
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関口 隆史
物質・材料研究機構ナノマテリアル研究所
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足立原 孝実
富士通株式会社
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武藤 俊一
富士通厚木研
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高津 求
富士通(株)
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阪東 寛
産業技術総合研
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横山 直樹
株式会社富士通研究所ナノエレクトロニクス研究センター:(現)産業技術総合研究所連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター
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関口 隆史
物質・材料研究機構半導体材料センター
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武藤 俊一
富士通
著作論文
- 量子化機能素子のためのAs-Grownナノ構造の作成
- 自己形成InAs量子ドットのホールバーニングメモリ応用
- 自己形成InAsも量子ドットの光電流ホールバーニングの観測
- 自己形成InAs量子ドットの光電流ホールバーニングの観測
- InGaAs/GaAs正四面体溝(TSR)量子ドット作製技術
- 量子箱におけるフォノン散乱抑制への期待
- (111)B GaAs基板上の正四面体溝にMOVPE成長した量子ドット構造
- マルチエミッタ型RHETを用いた論理集積回路
- ダブルエミッタRHET構造を有するSRAMセル
- 共鳴トンネリングホットエレクトロントランジスタ:RHET (′88富士通総合技術展特集号)
- 自己形成InAs量子ドットのホールバーニングメモリ応用
- 自己形成InAs量子ドットのホールバーニングメモリ応用
- 量子ドットを用いた波長多重メモリー