白井 正充 | 大阪府立大学大学院工学研究科

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概要

• 同名の論文著者
• 大阪府立大学大学院工学研究科の論文著者

関連著者

• 白井 正充

  大阪府立大学大学院工学研究科

• Sasago M

  Matsuisita Electric Industrial Co. Ltd. Kyoto Jpn

• Shirai Masamitsu

  Osaka Prefecture Univ. Osaka Jpn

• Sasago M

  Assoc. Super‐advanced Electronics Technol. Yokohama Jpn

• Sasago M

  Matsushita Electric Industrial Corp. Ltd.

• Shirai Masamitsu

  Department Of Applied Chemistry Osaka Prefecture University

• 白井 正充

  大阪府立大学 大学院 工学研究科

• Suyama Kanji

  Department Of Applied Chemistry Osaka Prefecture University

• Okamura Haruyuki

  Osaka Prefecture Univ. Osaka Jpn

• SHIRAI Masamitsu

  Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture University

• Shirai Masamitsu

  Department Of Applied Chemistry College Of Engineering Osaka Prefecture University

• 岡村 晴之

  大阪府立大学 大学院 工学研究科 応用化学分野

• 角岡 正弘

  大阪府立大学大学院工学研究科

• SUYAMA Kanji

  Department of Applied Chemistry, Osaka Prefecture University

• TSUNOOKA Masahiro

  Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture University

• Tsunooka M

  Osaka Prefecture Univ. Osaka Jpn

• 岡村 晴之

  大阪府立大学大学院工学研究科

• Matsuo Takahiro

  Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. (panasonic)

• QU Weihong

  Department of Applied Chemistry, Osaka Prefecture University

• Qu Weihong

  Department Of Applied Chemistry Osaka Prefecture University

• Inoue Tomohiro

  Department Of Applied Chemistry Osaka Prefecture University

• Tsunooka Masahiro

  Department Of Applied Chemistry Graduate School Of Engineering Osaka Prefecture University

• Tsunooka Masahiro

  Department Of Applied Chemistry Collage Of Engineering University Of Osaka Prefecture

• Ohba Tadahiro

  Osaka Prefecture Univ. Osaka Jpn

• 原田 知佳

  大阪府立大学大学院工学研究科

• 川崎 真一

  大阪ガス(株)

• ITANI Toshiro

  Semiconductor Leading Edge Technolgies, Inc.

• 山田 光昭

  大阪ガス(株)

• 藤木 剛

  大阪ガス(株)

• OHBA Tadahiro

  Department of Applied Chemistry, Osaka Prefecture University

• NAKAI Daisuke

  Department of Applied Chemistry, Osaka Prefecture University

• 陶山 寛治

  大阪府立大学大学院工学研究科物質系専攻応用化学分野

• SHINOZUKA Toyofumi

  Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture University

• LALEVEE Jacques

  Department de Photochimie Generale, UMR n°7525, Ecole Nationale Superieure de Chimie

• ALLONAS Xavier

  Department de Photochimie Generale, UMR n°7525, Ecole Nationale Superieure de Chimie

• FOUASSIER Jean-Pierre

  Department de Photochimie Generale, UMR n°7525, Ecole Nationale Superieure de Chimie

• INOUE Tomohiro

  Department of Natural Sciences, Faculty of Science and Engineering, Tokyo Denki University

• Itani Toshiro

  Semiconductor Leading Edge Technologies Inc

• 山田 光昭

  大阪ガス

• 白井 正充

  大阪府立大学大学院工学究科物質・化学系専攻

• Okamura Haruyuki

  Department Of Applied Chemistry Graduate School Of Engineering Osaka Prefecture University

• 山田 宙

  大阪府立大学大学院工学研究科

• MATSUKAWA Daisaku

  Department of Applied Chemistry, Osaka Prefecture University

• 岡村 晴之

  大阪府立大学大学院 工学研究科 応用化学分野

• 新 嘉津夫

  大阪府立大学大学院 工学研究科 応用化学分野

• 田島 良美

  大阪府立大学 大学院 工学研究科 応用化学分野

• 白井 正充

  大阪府立大学大学院 工学研究科 応用化学分野

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著作論文

• フォトポリマーの研究 : 継続は力なり
• 大阪府立大学中百舌鳥キャンパス
• エポキシ含有フルオレン : ポリシランブレンド系の光架橋
• スルホン酸エステル含有エポキシ架橋剤を用いた再可溶化型架橋系
• 新規スルホン酸エステル基を含有するエポキシポリマーの光架橋と水への再溶解
• リワーク能を有する光架橋・硬化樹脂
• 熱分解型多官能架橋剤を用いたリワーク型光架橋系
• リワーク機能を有する光架橋・硬化樹脂
• 溶かす フォトレジスト--性能を決める溶解特性
• Photocrosslinking of Oligomers Bearing Glycidyl Sulfonate Ester Units and Their Redissolution Property
• 水による溶解除去が可能なオキセタン部位含有光架橋性高分子 (特集:光とネットワークポリマー)
• 光重合
• Photocrosslinking and Thermal Degradation of Epoxy-containing Polymers Using Photobase Generators
• 超微細加工用フォトレジスト材料
• Effect of Anions on Photoreacitivity and Stability of Quaternary Ammonium Salts as Photobase Generators
• 光酸・塩基発生剤の開発とその新規フォトポリマー設計における活用
• 再溶解型光架橋・硬化樹脂
• Vacuum Ultraviolet (VUV)-Light-Induced Outgassing from Resist Polymers: A Study Using In Situ Quartz Crystal Microbalance (QCM) Technique
• Photocleavage Processes in an Iminosulfonate Derivative Usable as Photoacid in Resist Technology
• Visible Light-induced Cationic Polymerization of Epoxides Sensitized by Benzoquinonylsulfanyl Derivatives
• Photo-Induced Radical Polymerization Sensitized by Benzoquinonylsulfanyl Derivatives
• Photo- and Thermochemical Behavior of Quaternary Ammonium Thiocyanates and Their Use as Crosslinkers
• 熱分解型ジエポキシ化合物を用いた再可溶化型架橋性高分子
• Cyclic O-Acyloximes as Novel Photolatent Bases
• Enhanced photochemical generation of amines from trifunctional O-acyloxime
• 亜臨界水を用いた架橋樹脂の分解とケミカルリサイクル (特集 ポリマーの分解とその応用技術)
• FRPの分解とリサイクル (特集:廃棄物の再資源化技術)
• Negative EUV resist based on thiol-ene system
• Non-chemically amplified EUV resist based on PHS
• メタクリル酸メチル-アクリル酸エステル共重合体の185nm光によるアブレーティブ分解
• Preparation of replicated resin mold for UV nanoimprint using reworkable dimethacrylate
• Analysis of chain propagation in UV curing using reworkable resin
• i-Line sensitive photoacid generators using thianthrenium derivatives
• I-line sensitive non-ionic photoacid generators having thianthrene skeleton
• Degradable Network Polymers Based on Di(meth)acrylates
• 2-333 地域の中小企業技術者に対する工学教育プログラム((18)産学連携教育-II,口頭発表論文)
• UV/EB硬化技術--高分子材料への活用 (小特集 UV/EB硬化技術の最新の展開)
• リワーク型低収縮ジメタクリラートとそのUVインプリント材料への応用 : 樹脂構造の影響 (特集 光とネットワークポリマー)
• 熱分解型多官能架橋剤を用いたりワーク型光架橋系
• 水による溶解除去が可能なオキセタン部位含有光架橋性高分子

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