Shirai Masamitsu | Osaka Prefecture Univ. Osaka Jpn
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概要
関連著者
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Sasago M
Matsuisita Electric Industrial Co. Ltd. Kyoto Jpn
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Shirai Masamitsu
Osaka Prefecture Univ. Osaka Jpn
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白井 正充
大阪府立大学大学院工学研究科
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Sasago M
Assoc. Super‐advanced Electronics Technol. Yokohama Jpn
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Sasago M
Matsushita Electric Industrial Corp. Ltd.
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Shirai Masamitsu
Department Of Applied Chemistry Osaka Prefecture University
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Okamura Haruyuki
Osaka Prefecture Univ. Osaka Jpn
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Suyama Kanji
Department Of Applied Chemistry Osaka Prefecture University
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白井 正充
大阪府立大学 大学院 工学研究科
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Shirai Masamitsu
Department Of Applied Chemistry College Of Engineering Osaka Prefecture University
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SHIRAI Masamitsu
Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture University
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岡村 晴之
大阪府立大学大学院工学研究科
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角岡 正弘
大阪府立大学大学院工学研究科
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SUYAMA Kanji
Department of Applied Chemistry, Osaka Prefecture University
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Inoue Tomohiro
Department Of Applied Chemistry Osaka Prefecture University
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Ohba Tadahiro
Osaka Prefecture Univ. Osaka Jpn
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岡村 晴之
大阪府立大学 大学院 工学研究科 応用化学分野
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原田 知佳
大阪府立大学大学院工学研究科
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川崎 真一
大阪ガス(株)
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山田 光昭
大阪ガス(株)
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藤木 剛
大阪ガス(株)
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OHBA Tadahiro
Department of Applied Chemistry, Osaka Prefecture University
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NAKAI Daisuke
Department of Applied Chemistry, Osaka Prefecture University
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陶山 寛治
大阪府立大学大学院工学研究科物質系専攻応用化学分野
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INOUE Tomohiro
Department of Natural Sciences, Faculty of Science and Engineering, Tokyo Denki University
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山田 光昭
大阪ガス
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Okamura Haruyuki
Department Of Applied Chemistry Graduate School Of Engineering Osaka Prefecture University
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MATSUKAWA Daisaku
Department of Applied Chemistry, Osaka Prefecture University
著作論文
- フォトポリマーの研究 : 継続は力なり
- 大阪府立大学中百舌鳥キャンパス
- エポキシ含有フルオレン : ポリシランブレンド系の光架橋
- スルホン酸エステル含有エポキシ架橋剤を用いた再可溶化型架橋系
- 新規スルホン酸エステル基を含有するエポキシポリマーの光架橋と水への再溶解
- リワーク能を有する光架橋・硬化樹脂
- 熱分解型多官能架橋剤を用いたリワーク型光架橋系
- リワーク機能を有する光架橋・硬化樹脂
- Photocrosslinking of Oligomers Bearing Glycidyl Sulfonate Ester Units and Their Redissolution Property
- 水による溶解除去が可能なオキセタン部位含有光架橋性高分子 (特集:光とネットワークポリマー)
- 光重合
- Photocrosslinking and Thermal Degradation of Epoxy-containing Polymers Using Photobase Generators
- 超微細加工用フォトレジスト材料
- Effect of Anions on Photoreacitivity and Stability of Quaternary Ammonium Salts as Photobase Generators
- 光酸・塩基発生剤の開発とその新規フォトポリマー設計における活用
- 熱分解型ジエポキシ化合物を用いた再可溶化型架橋性高分子
- Cyclic O-Acyloximes as Novel Photolatent Bases
- Enhanced photochemical generation of amines from trifunctional O-acyloxime
- 亜臨界水を用いた架橋樹脂の分解とケミカルリサイクル (特集 ポリマーの分解とその応用技術)
- FRPの分解とリサイクル (特集:廃棄物の再資源化技術)
- Negative EUV resist based on thiol-ene system
- Non-chemically amplified EUV resist based on PHS
- Preparation of replicated resin mold for UV nanoimprint using reworkable dimethacrylate
- Analysis of chain propagation in UV curing using reworkable resin
- i-Line sensitive photoacid generators using thianthrenium derivatives
- I-line sensitive non-ionic photoacid generators having thianthrene skeleton
- Degradable Network Polymers Based on Di(meth)acrylates
- Highly Sensitive Photocrosslinking System Using Fluorene Derivatives Having Vinyl Ether or Epoxy Moiety
- Multi-Functional Methacrylates Bearing Thermal Degradation Properties--Synthesis, Photo- and Thermal Curing, and Thermolysis
- UV/EB硬化技術--高分子材料への活用 (小特集 UV/EB硬化技術の最新の展開)
- リワーク型低収縮ジメタクリラートとそのUVインプリント材料への応用 : 樹脂構造の影響 (特集 光とネットワークポリマー)