増田 弘生 | (株)日立製作所デバイス開発センタ
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概要
関連著者
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増田 弘生
(株)日立製作所デバイス開発センタ
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佐藤 久子
日立製作所デバイス開発センタ
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常野 克己
日立製作所デバイス開発センタ
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日立製作所デバイス開発センタ
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市川 仁子
日立製作所デバイス開発センタ
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青山 仁子
日立製作所デバイス開発センタ
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中村 高秀
日立製作所デバイス開発センタ
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鳥谷部 達
東洋大学工学部情報工学科
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増田 弘生
日立デバイス開発センタ
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斉藤 直人
(株)日立製作所機械研究所
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三浦 英生
(株)日立製作所機械研究所
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森 和孝
日立製作所デバイス開発センタ
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坂田 信二
(株)日立製作所機械研究所
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坂田 信二
(株)日立製作所 機械研究所
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坂田 信二
(株)日立製作所
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森 和孝
(株)日立製作所 デバイス開発センタ
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清水 翼
(株)日立製作所 機械研究所
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菅原 活郎
日本大学工学部情報工学科
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磯前 誠一
(株)日立製作所 中央研究所
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清水 翼
(株)日立製作所
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磯前 誠一
日立製作所中央研究所
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常野 克己
(株)日立製作所半導体グループ
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常野 克巳
日立製作所 デバイス開発センタ
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佐藤 久子
(株)日立制作所
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藤村 岳志
日本大学工学部情報工学科
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太田 裕之
(株)日立製作所
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玉置 洋一
(株)日立製作所デバイス開発センタ
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松尾 仁司
日立製作所中央研究所
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玉置 洋一
日立製作所 デバイス開発センタ
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山本 雅彦
(株)日立製作所デバイス開発センタ
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増田 弘生
株式会社日立製作所 中央研究所
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池川 昌弘
(株)日立製作所
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三浦 英生
東北大学大学院工学研究科
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三浦 英生
東北大
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纐纈 達也
日立デバイス開発センタ
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松永 信敏
(株)日立製作所半導体グループ
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井原 茂男
日立製作所中央研究所
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太田 裕之
日立機械研究所
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国友 久彰
日立超LSIシステムズ
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大鹿 克志
(株)日立製作所半導体事業部
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丸山 貴志子
日立製作所
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上原 稔
日立金属
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鳥谷部 達
東洋大学工学大学院工学研究科情報システム専攻
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井原 茂男
(株)日立製作所中央研究所
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纐纈 達也
(株)日立製作所デバイス開発センタ
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井瀬 潔
(株)日立製作所半導体グループ
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井瀬 潔
日立製作所半導体事業部
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丸山 貴志子
株式会社日立製作所中央研究所
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松永 信敏
(株)日立製作所半導体事業部
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国友 久彰
日立マイコンシステム
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上原 稔
日立超LSIエンジニアリング
著作論文
- VLSI配線容量のシミュレーションと評価
- 表面保護膜応力に起因したGaAs基板内の局所的分極電荷発生とトランジスタしきい電圧変動の解析
- Siの熱酸化プロセスにおける形状・応力解析プログラムOXSIM2Dの開発
- 薄膜多層構造体応力解析プログラムSIMUS2D/Fの開発
- プロセス/デバイスシミュレータによる高速バイポーラトランジスタの性能予測
- GaAs FETの周波数依存性デバイスモデルの開発
- 多層ピッチ配線特性のモデル化と実験比較
- 実験計画法を用いたMOSFETモビリティモデル最適化手法の検討
- 実験計画法を用いたMOSFETモビリティモデル最適化手法の検討
- 実験計画法を用いたMOSFETモビリティモデル最適化手法の検討
- 実験計画法を用いたMOSFETモビリティモデル最適化手法の検討
- ASICおよびMPU開発のTCAD/DA
- ASICおよびMPU開発のTCAD/DA
- TCADキャリブレーションの問題と統計手法の利用技術
- 感度解析によるCMOSプロセス設計
- TCADによる高集積0.4μmCMOS回路モデルパラメータ生成
- 多変量解析法によるMOSFET電流駆動能力に関する検討
- VLSIプロセスフローのコンピュータグラフィックス
- VLSI教育用3Dコンピュータグラフィックス : シリコン基板からクラウン型メモリセルの完成まで
- T-CAD およびその応用(シミュレーション技術の動向)
- VLSIプロセスフローのコンピュータグラフィックス
- [招待講演] VLSI開発生産におけるStatistical Metrologyの動向
- TCAD利用技術の開発と3つの課題
- 統合化とユ-ザフレンドリ-化 (超微細半導体シミュレ-ション技術--21世紀へ向けた限界への挑戦)
- VLSIデバイスシミュレ-ション (半導体シミュレ-ション技術)