TCADキャリブレーションの問題と統計手法の利用技術
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概要
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LSIの開発期間の短縮、開発費の低減を目標としてTCAD(Technology Computer Aided Design)の利用技術を立ち上げてきた。本研究では、TCADの精度向上のために開発してきた方法をもとにしたTCADによるデバイス特性予測方法をまとめた。TCAD利用技術の主な技術は次の3点である。(1)拡散定数データベース、(2)ドレイン電流データベース、(3)統計手法を利用したキャリブレーション。これにより、CMOS用デバイスのばらつき解析において、しきい電圧誤差0.02V以下、ドレイン電流誤差3%以下の予測を可能とした。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-11-14
著者
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増田 弘生
(株)日立製作所デバイス開発センタ
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市川 仁子
日立製作所デバイス開発センタ
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佐藤 久子
日立製作所デバイス開発センタ
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常野 克己
日立製作所デバイス開発センタ
-
増田 弘生
日立製作所デバイス開発センタ
-
青山 仁子
日立製作所デバイス開発センタ
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