[招待講演] VLSI開発生産におけるStatistical Metrologyの動向
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概要
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LSIのばらつき計測、生産管理手法、歩留り等に種々統計的な手法が開発され、現在のVLSI設計や装置管理さらには歩留り向上の戦略に反映されてきた。今日、0.1umがLSIの加工を議論するレベルに至った状況で、もう一歩進んだStatistical Metrology (統計的度量衡学)が開発研究される時期になって来ていると思われる。本報告では最近の米国を中心としたStatistical Metrologyの研究動向を概説するとともに、一例としての歩留りに関する各種統計量を測定データを基に解析を行った結果について議論する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-11-14
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