世古 明義 | 名古屋大学

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概要

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• 同名の論文著者
• 名古屋大学の論文著者

関連著者

• 酒井 朗

  名古屋大学工学研究科

• 財満 鎭明

  名古屋大学大学院工学研究科

• 酒井 朗

  大阪大学

• 酒井 朗

  名古屋大学

• 世古 明義

  名古屋大学

• 財満 鎭明

  名古屋大学先端技術共同研究センター

• 財満 鎭明

  名古屋大学

• 安田 幸夫

  名古屋大学工学部

• 渡辺 行彦

  豊田中央研究所

• 安田 幸夫

  名古屋大学大学院工学研究科結晶材料工学専攻:(現)高知工科大学総合研究所

• 近藤 博基

  名古屋大学大学院工学研究科

• Kondo H

  Department Of Biochemical Engineering And Science Kyushu Institute Of Technology

• 坂下 満男

  名古屋大学大学院工学研究科

• 渡辺 行彦

  (株)豊田中央研究所

• 坂下 満男

  名古屋大学大学院光学研究科

• 近藤 博基

  名古屋大学大学院光学研究科

• 安田 幸夫

  名古屋大学

• Kondo Hideo

  Institute Of Advanced Material Study Graduate School Of Engineering Sciences And Crest Japan Science

• Kondo Hirotomo

  Department Of Applied Chemistry Faculty Of Engineering Sojo University

• Kondo H

  Department Of Applied Chemistry Faculty Of Engineering Sojo University

• 財満 鎭明

  名古屋大学大学院 工学研究科

• 小川 正毅

  名古屋大学

• 佐合 寿文

  名古屋大学大学院工学研究科

• 藤塚 良太

  名古屋大学大学院工学研究科

• 藤塚 良太

  名古屋大学大学院工学研究科:(現)東芝セミコンダクター社

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著作論文

• La_2O_3-Al_2O_3複合膜における定電圧ストレス印加時の局所的な電荷捕獲とその放出過程(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• 電流検出型原子間力顕微鏡法を用いた極薄ゲート絶縁膜の信頼性評価(ナノテクノロジー時代の故障解析技術と解析ツール)
• 電流検出型原子間力顕微鏡を用いたLa_2O_3-Al_2O_3複合膜の局所リーク電流評価(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
• 電子注入ストレスを加えたゲート酸化膜の電流検出型原子間力顕微鏡による解析(電子材料)
• 電流検出型原子間力顕微鏡を用いたゲート絶縁膜の局所リーク電流評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• 電子注入ストレスを加えたゲート酸化膜の電流検出型原子間力顕微鏡による解析 : ゲート絶縁膜劣化機構の微視的評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)

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