田中 克彦 | 村田製作所
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概要
関連著者
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田中 克彦
(株)村田製作所
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田中 克彦
村田製作所
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坂部 行雄
(株)村田製作所
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久保田 哲平
(株)村田製作所
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櫻井 敦
(株)村田製作所
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桜井 敦
(株)村田製作所
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桜井 敦
村田製作所
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田中 克彦
(株)村田製作所 技術開発本部
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田中 克彦
株式会社 村田製作所
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李 効民
株式会社 村田製作所
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西田 邦雄
村田製作所材料開発セ
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白露 幸祐
(株)村田製作所
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山田 和弘
(株)村田製作所
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西田 邦雄
(株)村田製作所
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南川 忠洋
株式会社 村田製作所
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坂部 行雄
株式会社 村田製作所
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高田 英一
村田製作所
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高田 英一
(株)村田製作所
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片山 祐三
(株)村田製作所 技術開発本部
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肥留川 洋一
(株)アフティ
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五十嵐 賢
(株)アフティ
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白露 幸祐
R & D Division Murata Mfg. Co. Ltd.
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中野 充
株式会社村田製作所
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中野 充
株式会社 村田製作所
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坂部 行雄
株式会社村田製作所
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坂部 行雄
村田製作所
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森本 章治
金沢大学
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清水 立生
金沢大学
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李 効民
(株)村田製作所
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久保田 哲平
村田製作所
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山田 和弘
村田製作所
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久保田 哲平
株式会社村田製作所
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田中 克彦
株式会社村田製作所
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葛西 重治
(株)村田製作所
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櫻井 敦
株式会社 村田製作所
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久保田 哲平
株式会社 村田製作所
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南川 忠洋
(株)村田製作所
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李 効民
R & D Division, Murata Mfg. Co., Ltd.
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桜井 敦
R & D Division, Murata Mfg. Co., Ltd.
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白露 幸祐
R & D Division, Murata Mfg. Co., Ltd.
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田中 克彦
R & D Division, Murata Mfg. Co., Ltd.
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坂部 行雄
R & D Division, Murata Mfg. Co., Ltd.
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竹島 裕
(株)村田製作所技術開発本部
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大和田 邦樹
(株)村田製作所
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久保 竜一
村田製作所
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桐原 聡秀
阪大接合研
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宮本 欽生
阪大接合研
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川合 知二
大阪大学 産業科学研究所
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中川 卓二
村田製作所
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田畑 仁
大阪大学 産業科学研究所
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中川原 修
(株)村田製作所 技術開発本部
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志牟田 亨
(株)村田製作所 技術開発本部
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片山 祐三
株式会社 村田製作所
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清水 立生
金沢大 工
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中野 充
(株)村田製作所技術開発本部第3開発グループ開発2部
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片山 祐三
(株)村田製作所
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竹島 裕
(株)村田製作所
著作論文
- MOCVD法によるPZT薄膜のエピタキシャル成長
- Si 基板上 PZT-PZN 圧電体厚膜の低温形成(半導体・エレクトロニクス)
- マイクロデバイス用 PZT-Si 機能材料一体化技術
- スクリーン印刷法によるPZT-PZN系圧電体厚膜の圧電特性の向上
- F-1327 スクリーン印刷法によるPZT-PZN圧電体厚膜の低温形成とアクチュエータの特性(S49-2&S48 マイクロエネルギー(2)/精密機器マイクロメカトロニクス)(S49 マイクロエネルギー)
- 28pYR-4 正方晶BaTiO_3の弾性的性質に関する第一原理計算
- Si基板上PZTエピタキシャル薄膜の形成
- PZT-PZN系圧電体厚膜の低温形成
- 25aYJ-8 FLAPW法によるPbTiO_3-Pd界面の研究
- Si基板上のTi_Al_xN薄膜の結晶配向性
- 単一溶液原料を用いた化学気相成長法によるMn添加(Ba, Sr)TiO_3薄膜の合成
- センサ・アクチュエータ用無機能性薄膜プロセス技術 III.ECRスパッタ法を用いたPZT薄膜の形成と評価
- 3L15 セラミック/高分子系フォトニック結晶のミリ波特性
- レーザーアブレーション法による(Sr,Ba)Nb(O()エピタキシャル薄膜の作製と結晶性評価関西支部研究例会の講習要旨
- (Sr,Ba)Nb_2O_6薄膜の作製と基礎特性
- ECRスパッタ法によるInSb薄膜の組成制御
- ECRスパッタ法によるInSb薄膜の作製