桜井 敦 | 村田製作所

スポンサーリンク

概要

• 同名の論文著者
• 村田製作所の論文著者

関連著者

• 櫻井 敦

  (株)村田製作所

• 桜井 敦

  (株)村田製作所

• 桜井 敦

  村田製作所

• 田中 克彦

  (株)村田製作所

• 坂部 行雄

  (株)村田製作所

• 田中 克彦

  村田製作所

• 李 効民

  株式会社 村田製作所

• 家木 英治

  (株)村田製作所

• 白露 幸祐

  (株)村田製作所

• 吉野 幸夫

  (株)村田製作所

• 白露 幸祐

  R & D Division Murata Mfg. Co. Ltd.

• 中西 秀文

  (株)村田製作所

• 森本 章治

  金沢大学

• 清水 立生

  金沢大学

• 李 効民

  (株)村田製作所

• 久保田 哲平

  (株)村田製作所

• 田中 克彦

  株式会社 村田製作所

• 櫻井 敦

  株式会社 村田製作所

• 南川 忠洋

  株式会社 村田製作所

• 坂部 行雄

  株式会社 村田製作所

• 李 効民

  R & D Division, Murata Mfg. Co., Ltd.

• 桜井 敦

  R & D Division, Murata Mfg. Co., Ltd.

• 白露 幸祐

  R & D Division, Murata Mfg. Co., Ltd.

• 田中 克彦

  R & D Division, Murata Mfg. Co., Ltd.

• 坂部 行雄

  R & D Division, Murata Mfg. Co., Ltd.

• 木村 幸司

  (株)村田製作所

• 多田 裕

  金沢村田製作所

• 多田 裕

  (株)村田製作所

• 家木 英治

  金沢村田製作所

• 清水 立生

  金沢大 工

もっと見る 閉じる

著作論文

• MOCVD法によるPZT薄膜のエピタキシャル成長
• マイクロデバイス用 PZT-Si 機能材料一体化技術
• Si基板上PZTエピタキシャル薄膜の形成
• Si基板上のTi_Al_xN薄膜の結晶配向性
• エピタキシャル AI 電極を用いた SAW 共振子
• 1PD-7 エピタキシャルAl電極を用いたSAWデバイス(弾性表面波,ポスターセッション(概要講演))
• PB-14 SAWデバイス用エピタキシャルAl電極 : エピタキシャルAl膜on回転YカットLiNbO_3(P.ポスターセッションB-概要講演・展示)
• PC22 SAWデバイス用エピタキシャルAl電極 : エピタキシャルAl膜on 36°回転YカットLiTaO_3(ポスタセッションC-概要講演・展示)

スポンサーリンク