片山 祐三 | (株)村田製作所 技術開発本部

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• 片山 祐三

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  株式会社 村田製作所

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• 川合 知二

  大阪大学 産業科学研究所

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  大阪大学 産業科学研究所

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• 中野 充

  Research And Development Division, Murata Mfg. Co., Ltd

• 田畑 仁

  Research And Development Division, Murata Mfg. Co., Ltd

• 田中 克彦

  Research And Development Division, Murata Mfg. Co., Ltd

• 片山 祐三

  Research And Development Division, Murata Mfg. Co., Ltd

• 川合 知ニ

  Research And Development Division, Murata Mfg. Co., Ltd

• 片山 祐三

  株式会社 村田製作所

• 中川 賢俊

  (株)村田製作所技術開発本部第3開発グループ開発2部

• 田中 克彦

  Research And Development Division Murata Mfg. Co. Ltd

• 田畑 仁

  ISIR-Sanken, Osaka University

• 川合 知ニ

  ISIR-Sanken, Osaka University

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著作論文

• レーザーアブレーション法による(Sr,Ba)Nb(O()エピタキシャル薄膜の作製と結晶性評価関西支部研究例会の講習要旨
• スパッタリング法で作製したSrTiO_3薄膜の結晶性と誘電特性
• レーザアブレーション法によるSrTiO_3(100)基板への(Sr,Ba)Nb_2O_6薄膜のヘテロエピタキシャル成長
• (Sr,Ba)Nb_2O_6薄膜の作製と基礎特性
• 高周波デバイス用薄膜多層電極の作製 : 導体薄膜/誘電体薄膜を交互積層した薄膜多層電極の導体損失低減効果とそのデバイス応用
• イオンビームスパッタリング法におけるスパッタ粒子の角度分布

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