Production of Inductively Coupled RF Plasma Using a Ladder-Shaped Antenna
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概要
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A radio-frequency (RF) excited H2 plasma is produced using a ladder-shaped antenna which is positioned within a plasma chamber and the fundamental characteristics of the plasma are examined. The potential and current fed to the antenna are almost in phase. The plasma parameters are measured as a function of RF power, gas pressure and gas flow rate with a Langmuir probe. It is found that the plasma density is uniform within ±10% over 300 mm. Furthermore, increases in the frequency of the RF power source lead to increases in the plasma density. When a mesh grid is installed between the antenna and the substrate, the plasma density and the plasma potential decrease.
- INSTITUTE OF PURE AND APPLIED PHYSICSの論文
- 1997-07-30
著者
-
Kawai Yoshinobu
Interdiciplinary Gradate School Of Engineering Sciences Kyushu University
-
MURATA Masayoshi
Nagasaki Research & Devepolment Center, Mitsubishi Heavy Industries Ltd.
-
NISHIDA Seiichi
Nagasaki Research & Development Center, Mitsubishi Heavy Industries Ltd.
-
MORITA Syoji
Nagasaki Research & Development Center, Mitsubishi Heavy Industries Ltd.
-
Yoshioka Masao
Interdisciplinary Graduate School Of Engineering Sciences Kyushu University
-
Mashima Hiroshi
Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu University, Kasuga, Fukuoka 816, Japan
-
Nishida Seiichi
Nagasaki Research & Development Center, Mitsubishi Heavy Industries Ltd., Fukahori, Nagasaki 851-03, Japan
-
Morita Syoji
Nagasaki Research & Development Center, Mitsubishi Heavy Industries Ltd., Fukahori, Nagasaki 851-03, Japan
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