Electron Heating and Control of RF-Produced Plasma Parameters Excited by a Planar, Spiral Antenna
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概要
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Electron heating in inductively coupled plasma with use of a planar, spiral antenna is investigated by measurement of the skin depth of evanescent waves and antenna-plasma coupling. It is shown that for plasma production, both a collisionless and a collisional heating mechanism play an important role in a wide range of collision frequencies. In addition, control of plasma parameters such as uniformity and density by adjustment of the antenna configuration and the external magnetic field is demonstrated.
- Publication Office, Japanese Journal of Applied Physics, Faculty of Science, University of Tokyoの論文
- 1997-07-30
著者
-
Kawai Yoshinobu
Interdiciplinary Gradate School Of Engineering Sciences Kyushu University
-
Shinohara Shunjiro
Interdisciplinary Graduate School Of Engineering Science Kyushu University
-
Takechi Seiji
Interdisciplinary Graduate School Of Engineering Sciences Kyushu University
-
Takechi Seiji
Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu University, Kasuga, Fukuoka 816, Japan
-
Kawai Yoshinobu
Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu University, Kasuga, Fukuoka 816, Japan
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