マルチホールドプラグ分子線源
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概要
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A new molecular beam source, multiholed plug effusion cell which has uniform beam intensity on a substrate, is described. The effusion cell consists of a crucible and a plug with eight holes which act as collimating effusion sources. The eight collimated beams make uniform beam intensity on the substrate. A method to calculate the beam intensity distribution of the multiholed plug effusion cell is described. The thickness distribution of the antimony film deposited by the multiholed plug effusion cell is in good agreement with the calculated one. The correction of the hole parameters at oblique beam incidence is also described.
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