表面選択性X線トポグラフィによる鏡面研磨シリコン表面の観察
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概要
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Surface-selective topographic observations have been performed by extremely asymmetric diffraction, in which the glancing angle of the incident x-rays is near the critical angle of total reflection; this was achieved by using the wavelength tunability of synchrotron radiation. Mechano-chemical polished surfaces of Si (001) and Si (111) wafers were investigated. Strain images arising from the polished surfaces were obtained by adjusting the penetration depth to be several tens of nanometers.
- 日本結晶学会の論文
著者
-
木村 滋
JASRI
-
石川 哲也
東大工
-
石川 哲也
東京大学工学部
-
松井 純爾
NEC 研究開発グループ
-
木村 滋
(財)高輝度光科学研究センター ナノテクノロジー総合支援プロジェクト推進室
-
木村 滋
日本電気 (株)
-
松井 純爾
日本電気 (株)
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