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概要
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Non-uniformity of surface potential affects the generation of various defects such as particle adhesion, residues, and corrosion, during CMP process. The surface potential is caused from many factors like work function differences, electrostatic charges, and charged particles. We evaluate the surface potential change during CMP process by using EFM (Electrostatic Force Microscope) technique. The surface potential change was observed on contaminated insulators by polishing with a Si probe. The potential shift was different from the kinds of insulators, which indicates that contamination layer exhibits different properties. The potential shift was also observed on cleaned (without contamination) insulators; this result indicates that mechanical deformation arises surface potential shift like the piezoelectric effect of ferroelectric materials such as PZT.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2011-03-17
著者
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