203 二次元形状の多結晶配線におけるエレクトロマイグレーション損傷しきい電流密度(OS-2A,OS-2 電子デバイス実装・電子材料と計算力学)

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概要

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• 社団法人日本機械学会の論文
• 2005-11-17

著者

• 笹川 和彦

  弘前大

• 山路 尚

  弘前大院

• 宇野 茂雄

  弘前大

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