Improvement in Electrical Conductivity of Indium Tin Oxide Films Prepared via Pulsed Laser Deposition on Electric-Field-Applied Substrates(Optics and Quantum Electronics)

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 社団法人応用物理学会の論文
• 2002-06-15

著者

• 越崎 直人

  産総研ナノテク

• 越崎 直人

  製品科研

• Koshizaki Naoto

  Nanoarchitectonics Research Center (narc) National Institute Of Advanced Industrial Science And Tech

• Koshizaki Naoto

  Nanoarchitectonics Research Center Aist

• SASAKI Takeshi

  Nanoarchitectonics Research Center (NARC), National Institute of Advanced Industrial Science and Tec

• NARAZAKI Aiko

  Photoreaction Control Research Center, National Institute of Advanced Industrial Science and Technol

• KAWAGUCHI Yoshizo

  Photoreaction Control Research Center, National Institute of Advanced Industrial Science and Technol

• NIINO Hiroyuki

  Photoreaction Control Research Center, National Institute of Advanced Industrial Science and Technol

• Niino H

  National Inst. Advanced Industrial Sci. And Technol. Aist Ibaraki Jpn

• Niino H

  Photonics Research Institute National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology (aist)

• Niino Hiroyuki

  Photonic Research Institute National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology

• Niino Hiroyuki

  National Institute For Materials And Chemical Research

• Kawaguchi Y

  Photonics Research Institute National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology (aist)

• Narazaki Aiko

  Photonics Research Institute National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology (aist)

• Sasaki T

  Nanoarchitectonics Research Center Aist

• Sasaki Takeshi

  Nanoarchitectonics Research Center (narc) National Institute Of Advanced Industrial Science And Tech

• Kawaguchi Yoshizo

  Photonics Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)

関連論文

• 19aRG-2 正方晶ボロンナノベルトのMgドープと電気物性測定II(クラスレート,領域7,分子性固体・有機導体)
• 25aYB-6 透過型電子顕微鏡用いたMgドープボロンナノベルトの電子構造の研究II(25aYB チューブ構造・物性,領域7(分子性固体・有機導体))
• 30aRC-4 透過型電子顕微鏡を用いたMgドープボロンナノベルトの研究(30aRC クラスター・ゼオライト,領域7(分子性固体・有機導体))
• 23aWF-7 ボロンナノベルトの構造と電気伝導における中性子照射の影響(23aWF ゼオライト・分子性固体,領域7(分子性固体・有機導体))
• 23pTH-4 ボロンナノベルトの電気伝導における放射線照射の影響(クラスレート・新物質,領域7,分子性固体・有機導体)
• 26pYK-11 ボロン正20面体クラスター固体の自己補償(シミュレーション,転位,点欠陥・照射損傷),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 強磁性障壁層のためのEuO薄膜の磁気特性
• Preparation of PbTiO_3 Thin Films Using a Coating Photolysis Process with ArF Excimer Laser
• Direct Conversion of Metal Acetylacetonates and Metal Organic Acid Salts into Metal Oxides Thin Films Using Coating Photolysis Process with An ArF Excimer Laser
• Direct Conversion of Titanium Alkoxide into Crystallized TiO_2 (rutile) Using Coating Photolysis Process with ArF Excimer Laser
• Critical Current Densities at 77 K in Ba_2YCu_3O_-Ag Films Prepared by Dipping-Pyrolysis Process
• 30pYG-1 ボロンナノベルトの構造解析(30pYG クラスレート,領域7(分子性固体・有機導体))
• 酸化コバルトナノ粒子堆積膜の光応答型COガスセンサ特性
• 液相レーザアブレーションによるITOナノ粒子の微細化
• 26pZB-1 同位体^Bを凝縮したボロンナノベルトの電気物性(26pZB クラスレート,領域7(分子性固体・有機導体))
• 30aRC-5 正方晶ボロンナノベルトの光伝導における環境応答性(30aRC クラスター・ゼオライト,領域7(分子性固体・有機導体))
• 大気圧マイクロプラズマのオンデマンド材料プロセシングへの応用 (特集 マイクロプラズマ技術のナノ・バイオ材料工学への応用(Part1))
• 22pXA-1 正方晶ボロンナノベルトの高温電気伝導(クラスター・ゼオライト,領域7(分子性固体・有機導体))
• 25aYK-5 正方晶ボロンナノベルトのMgドープと電気物性測定(クラストレート,領域7(分子性固体・有機導体))
• レーザーアブレーションを利用した酸化物ナノ材料調製
• 液相PLA法による磁性ナノ微粒子作製
• 15aWE-5 正方晶ボロンナノベルトの電気物性(クラスレート・ゼオライト, 領域 7)
• 同時スパッタリングによって作製したPt/TiO_2ナノコンポジット電極の光電気化学的挙動
• Fe_3O_4を用いた磁気トンネル接合の作製
• Reactive Evaporation of Metal Wire and Microdeposition of Metal Oxide Using Atmospheric Pressure Reactive Microplasma Jet
• Fabrication of Gold Dot and Tubular Gold Arrays Using Anodic Aluminum Oxide Film as Template
• Characteristics of Partially Disordered Gallium Nitride Nanodots Synthesized by Pulsed-Laser Ablation
• Quantum Confinement Effect of Amorphous GaN Quantum Dots Prepared by Pulsed-Laser Ablation
• Optical properties from amorphous GaN films deposited by a pulsed-laser ablation at room temperature
• Fabrication of Au Nano-ring Arrays Using Anodic Aluminum Oxide Film as RF-sputtering Mask
• Highly stable gold nanoparticles with tunable number density and their application in surface plasmonic biosensor
• Formation Process of Platelet Nanocomposites with Zinc Hydroxide and Sodium Dodecyl Sulfate Prepared by Laser Ablation in Solution
• Effect of Alkyl Chain Length on Layered Structure of Zn Nanocomposites Prepared by Laser Ablation of Zn in Aqueous Solution of Sodium Alkyl Sulfate
• 22pXF-9 TEM-EELS/XES によるボロンナノベルトの電子構造の研究 II
• 23aTK-7 MBE による AlPdRe 準結晶薄膜の作製と電気物性 II
• 30pZB-13 TEM-EELS/XES によるボロンナノベルトの電子構造の研究
• 31pZC-12 MBE による AlPdRe 準結晶薄膜の作製と電気物性
• 29pXH-4 Fe_3O_4 を使った磁気抵抗素子作製と Fe の界面酸化状態
• Improvement in Electrical Conductivity of Indium Tin Oxide Films Prepared via Pulsed Laser Deposition on Electric-Field-Applied Substrates(Optics and Quantum Electronics)
• パルスレーザーアブレーションによる金属酸化物ナノ微粒子の堆積 (特集 微粒子の配列・集積・固定化)
• レーザーアブレーションによる金属酸化物ナノ微粒子の調製
• レーザーアブレーションによる金属酸化物ナノ微粒子の調製
• スパッタ法及びレーザーアブレーション法によるナノコンポジットの調製と光学的・化学的機能
• 酸素を20%含む窒素およびアルゴン雰囲気中におけるTiAlの高温酸化挙動
• Optical NO Sensing Using CoO/SiO_2 Nanocomposite Film and Its Microstructure
• SiO2層を介在させたZnO-NiO接合構造のNO感応特性
• 環境モニタリング用高性能ガスセンサに関する研究 (大気汚染防止に関する総合研究--平成7年度)
• ジルコニア含有ガラスのアルカリ浸食初期過程に及ぼすカルシウムイオンの影響
• XPSによるZrO_2含有ガラスのアルカリ浸食初期過程の分析
• Micromachining of Silica Glass Using EUV Radiation of Laser-Produced Plasma
• Micromachining of Silica Glass Using EUV Radiation of Laser-Produced Plasma (特集 量子ビームによるナノバイオエレクトロニクス)
• Laser-Induced Backside Wet Etching of Sapphire
• Gas Source MBE Growth of High-Quality InP Using Triethylindium and Phosphine
• MBE Growth of High-Quality InP Using Triethylindium as an Indium Source
• Microfabrication of a Fluoropolymer Film Using Conventional XeCl Excimer Laser by Laser-Induced Backside Wet Etching
• Laser Ablation of Poly(methylmethacrylate) Doped with Aromatic Compounds : Laser Intensity Dependence of Absorption Coefficient
• Nonlinear Absorption Coefficient of PMMA Doped with Benzil for Analysis of Excimer Laser Ablation
• Formation of Elastic Cone-Like Microstructures on the Composite of Elastomer and Carbon Black by Excimer Laser Ablation
• Molecular Orientation of Liquid Crystalline Polymer Films Fabricated by Polarized-Laser Chemical Vapor Deposition
• Anisotropic Molecular Orientation of Poly(o-trimethylsilyl)-Phenylacetylene Film Swollen under High Magnetic Field
• 0.8 μm CMOS Process Compatible 60 V-100 mΩ・mm^2 Power MOSFET on Bonded SOI
• 0.8μm CMOS Process Compatible 60V - 100mΩ・mm^2 Power MOSFET on Bonded SOI
• Nano- and Microdot Array Formation of FeSi_2 by Nanosecond Excimer Laser-Induced Forward Transfer
• Synthesis and Photolysis of Biphenylenetetracarboxylic Dianhydride in Low-temperature Neon Matrixes
• Fabrication of a Novel Microfluidic Device Incorporating 2-D Array of Microbeads
• Etching a Micro-Trench with a Maximum Aspect Ratio of 60 on Silica Glass by Laser-Induced Backside Wet Etching (LIBWE)
• Effect of Annealing on the Tolerance of LiCaAlF_6 Single Crystals against F_2 Laser Irradiation
• ZnCdSe/ZnSe Quantum-Well Laser Diode on a (711)A GaAs Substrate
• High-Power, Continuous-wave and Blue Light Generation by Intracavity Frequency Doubling of a Cr:LiSrAlF_6 Laser
• 67-mW Continuous-Wave Blue Light Generation by Intracavity Frequency Doubling of a Diode Pumped Cr:LiSrAlF_6 Laser
• Resistance of LiCaAlF_6 Single Crystals against F_2 Laser Irradiation
• Effect of High-Temperature Annealing in Vacuum and Hydrogen on Paramagnetic Defects in Diamond Films Grown by Chemical Vapor Deposition
• Characteristics of Excimer-Laser-Induced Luminescence of the Ground Surface of Silica Glass
• Seebeck Coefficient and Power Factor of Single-Crystalline Boron Nanobelts
• Nano-Ablation of Inorganic Materials Using Laser Plasma Soft X-rays at around 10 nm
• Direct Etching of Poly(methyl methacrylate) Using Laser Plasma Soft X-rays
• Laser Ablation of Transparent Materials by UV fs-Laser Irradiation
• レーザーアブレーション法およびゾルゲル法で作製したNio/Si02ナノコンポジットのCOガス応答
• 27pPSA-56 金一酸化銅複合ナノ粒子の生成と触媒作用(27pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• VII-4 液中レーザーアブレーションによる新規材料合成(シンポジウムVII:レーザーアブレーションプラズマのつくる高温高圧反応場とそれによる新材料創製・加工)
• Reactive Evaporation of Metal Wire and Microdeposition of Metal Oxide Using Atmospheric Pressure Reactive Microplasma Jet
• Etching a Micro-Trench with a Maximum Aspect Ratio of 60 on Silica Glass by Laser-Induced Backside Wet Etching (LIBWE)
• Characteristics of Partially Disordered Gallium Nitride Nanodots Synthesized by Pulsed-Laser Ablation
• Effect of Annealing on the Tolerance of LiCaAlF6 Single Crystals against F2 Laser Irradiation
• Laser-Induced Backside Wet Etching of Sapphire

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク