Characterization of RF-Enhanced DC Sputtering to Deposit Tin-Doped Indium Oxide Thin Films
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1998-11-15
著者
-
重里 有三
青学大理工
-
YASUI Itaru
Institute of Industrial Science, University of Tokyo
-
SHIGESATO Yuzo
College of Science and Engineering, Aoyama Gakuin University
-
FUTAGAMI Toshiro
Institute of Industrial Science, University of Tokyo
-
Yasui Itaru
Institute Of Industrial Science University Of Tokyo
-
重里 有三
青山学院大
-
Shigesato Yuzo
College Of Science And Engineering Aoyama Gakuin University
-
Shigesato Yuzo
Institute On Industrial Science University Of Tokyo
-
Shigesato Yuzo
Department Of Chemistry Aoyama Gakuin University
-
Futagami Toshiro
Institute Of Industrial Science University Of Tokyo
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