H_2O添加スパッタリングで異なる基板上に作製した錫ドｰプ酸化インジウム(ITO)薄膜の構造と電気特性
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概要
著者
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佐藤 泰史
青学大理工
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重里 有三
青学大理工
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佐藤 泰史
青山学院大学大学院理工学研究科
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重里 有三
青山学院大学大学院理工学研究科
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西村 絵里子
(株)東芝生産技術センタｰ
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大川 秀樹
(株)東芝生産技術センタｰ
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宋 豊根
青山学院大学大学院理工学専攻機能物質創成コｰス
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重里 有三
青山学院大
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宋 豊根
青山学院大学理工学部化学科
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西村 絵里子
東芝 生産技研
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佐藤 泰史
青山学院大学 理工学部 化学・生命科学科
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