残留応力解法による長周期ファイバグレーティングを用いた利得平坦化EDFA
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概要
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- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-09-07
著者
-
和田 朗
(株)フジクラ 光電子技術研究所 光通信研究部
-
和田 朗
株式会社フジクラ
-
西出 研二
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
酒井 哲弥
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
酒井 哲弥
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
-
山内 良三
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
山内 良三
(株)フジクラ
-
島 研介
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
酒井 哲弥
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
山内 良三
フジクラ
-
秋山 正明
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
西出 研二
フジクラ 光電子技研
-
秋山 正明
<株>フジクラ光電子技術研究所
-
酒井 哲弥
フジクラ 光電子技研
-
島 研介
(株)フジクラ 光電子技術研究所
-
山内 良三
フジクラ 光電子技研
-
西出 研二
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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